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西安科盟真空技术有限公司

Xi 'an Kom Vacuum Technology Co., Ltd.

PRODUCT CENTER

产品中心

磁悬浮分子泵KTP-90i

KTP-90i系列采用全主动磁悬浮技术，实现无接触运行与高稳定性控制，适用于EUV光刻、量测、分子束外延及先进封装等高精度真空工艺场景。

产品具备低振动、无油运行及高精度转速控制能力，可满足先进半导体制造对高洁净、高稳定性真空环境的需求。

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磁悬浮分子泵KTP-240i

KTP-240i系列采用全磁浮无接触运行设计，具备低振动、快速降速及高稳定性控制能力，适用于EUV光刻、量测、分子束外延及先进封装等高精度真空工艺环境。

产品支持长时间稳定运行，可满足先进制造设备对洁净度与可靠性的要求。

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磁悬浮分子泵KTP-454系列

KTP-H454系列采用磁悬浮无接触运行技术，具备高抽速、低振动及快速升降速能力，适用于Transfer、科研、离子注入、PVD及ALD等真空工艺环境。

产品采用高可靠性结构设计，可满足长时间稳定运行需求。

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磁悬浮分子泵KTP-600系列

KTP-H600与KTP-H1000采用紧凑型轻量化结构设计，具备高抽速性能与快速升速能力，可满足先进真空工艺设备对稳定性、空间适配性及系统集成效率的需求。

产品适用于Transfer、科研、PVD及ALD等多类真空工艺场景，能够在复杂工况下实现长期稳定运行。

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磁悬浮分子泵KTP-1601系列

KTP-H1601采用高可靠性磁悬浮结构设计，具备快速升降速及高稳定性运行能力，适用于科研、离子注入、PVD、ALD、Etch及CVD等高负载真空工艺环境。

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磁悬浮分子泵KTP-2201系列

KTP-H2201系列采用高可靠性磁悬浮结构设计，适用于离子注入、PVD、CVD、ALD及Etch等多类半导体真空工艺场景。

产品兼容主流设备接口体系，具备优异的系统适配能力与长期稳定运行性能，可满足复杂工艺环境下的高洁净真空需求。

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磁悬浮分子泵KTP-3301系列

KTP-H3301系列采用轻量化紧凑结构设计，具备高抽速性能与优异空间适配能力，适用于CVD、ALD、离子注入及PVD等先进半导体真空工艺环境。

产品在保证高稳定性运行的同时，可提升设备集成效率与安装灵活性。

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磁悬浮分子泵KTP-3803系列

KTP-H3803系列采用高可靠性磁悬浮结构设计，具备优异的大流量抽速性能、高压缩比及快速升降速能力，可满足CVD、ALD、Etch、离子注入及PVD等高负载真空工艺环境需求。
产品提供一体式与分体式两种结构方案，可根据不同设备空间布局及系统集成需求灵活适配，兼顾高稳定性运行与设备集成效率。

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